有许多可行的连续电去离子（CEDI）技术，包括IONPURE的VNX CEDI膜堆。我们的膜堆为大流量系统优化设计，CEDI的流量槽让集成更加简便，也更加便宜。VNX 膜堆有多种应用，然而，最常见的应用是：

• 微电子
• 批量去离子
• 发电

IONPURE® VNX CEDI 膜堆的优势

IONPURE VNX CEDI膜堆的名义产水流量为12.5m³/h (55 gpm)。具有玻璃纤维外壳与集成的弹性安装端口，令人熟知的是，这些膜堆的无泄漏临界值高达100 psig (7 bar) 。此外，相比IONPURE LX CEDI膜堆，这一膜堆在许多应用上都有同等或更大的优势，原因如下：

• 可靠性
• 易于集成
• 膜堆性能
• 给水水质要求
• 运行成本（管道和架构）